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直讀光譜儀內(nèi)部氩氣的(de)重要作用
我們将在下面為(wèi)大家仔細說一(yī)下關于直讀光譜儀內(nèi)部氩氣的(de)重要作用。
氩氣的(de)流量和(hé)壓力決定Ar氣對放電表面的(de)沖擊力，必須适當。若沖擊能力低(dī)，即不足以将試樣激發過程中産生的(de)氧和(hé)它形成氧化物沖掉，則這些氧化物必定凝集在樣品表面及電極上，抑制試樣的(de)繼續蒸發，這種現象靠中心區愈嚴重。隻有當氩氣的(de)沖擊能力足以洗除氧和(hé)電極上的(de)凝集物，同時又不至于使火花産生跳動時，才是最佳狀态。
氩氣不純，含有過量氧含量，凝集在電極上的(de)氧化物多，譜線強度降低(dī)，使氩火花放電不穩定。水蒸汽和(hé)C02一(yī)樣，在高(gāo)溫下可(kě)能分解出氧氣。因此水蒸汽和(hé)C02均不允許含量過大。碳過多，對含碳量較少的(de)試樣的(de)分析精度有直接影響。
為(wèi)了提高(gāo)氩火花的(de)穩定性，必須對氩氣進行淨化處理(lǐ)。可(kě)以在供氩管道(dào)上加上一(yī)個盛分子(zǐ)篩的(de)容器，用以吸附氩氣中的(de)水分及複雜氣體，使氩氣幹燥和(hé)淨化。分子(zǐ)篩吸附的(de)物質可(kě)以用加熱的(de)辦法去(qù)除。去(qù)除吸附物後的(de)分子(zǐ)篩又恢複了吸附能力，還可(kě)以重複循環使用。也可(kě)以用條狀的(de)氫氧化鉀去(qù)掉氩氣中的(de)二氧化碳，也可(kě)以用鎂爐（在管道(dào)容器中裝入金屬鎂屑），爐子(zǐ)溫度400-600C，氩氣通過鎂爐後可(kě)以除去(qù)氧。經過淨化裝置處理(lǐ)後的(de)氩氣，就能滿足分析要求了。
氩氣減壓閥
為(wèi)了避免空氣對氩氣管道(dào)的(de)污染而降低(dī)氩氣純度，因此，平時不做(zuò)分析時，常規光譜儀氩氣管道(dào)中也保持0.5-1升/分鍾的(de)氩氣流量，稱之謂靜态氩沖洗火花室。因此操作者要注意找一(yī)塊樣品始終蓋住極闆孔，進行分析需換磨樣品時，要求操作迅速，以免盡量減少空氣進入火花室。
氩氣系統由氩氣控制電路、電磁閥，氣流控制閥等組成，氣流量的(de)分配根據激發過程的(de)需要，由程序設定，各閥門己由制造廠設定，用戶不需要單獨調整，隻需提供0.3MPa的(de)氣源即可(kě)。
氩氣進入火花室有一(yī)條通道(dào)，從聚光鏡前面下方進入火花室，這樣就比較徹底地(dì)沖淨光線通過處空間的(de)空氣，又可(kě)以阻止激發時産生的(de)粉塵對聚光鏡的(de)污染。
氩氣流量分配為(wèi)：①惰性流量（待機狀态）為(wèi)0.5升/分，此時電磁閥門關閉，氩氣經過固定氣流控制閥保持其恒定值。OBLF公司的(de)光譜儀在常規分析狀态下，靜态氩流量為(wèi)零。②大流量沖洗，目的(de)是沖擊更換樣品時帶進的(de)空氣。此時電磁閥全開，保持流量為(wèi)5-6升/分。③激發狀态。中間路電磁閥關閉，另一(yī)路與常流量合成3-5升/分流量，維持正常激發。當激發停止，兩閥關閉，又進入待機狀态。
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